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手動無接觸硅片測試儀

手動無接觸硅片測試儀
 

手動無接觸硅片測試儀(HS-NCS-300型)可以測量硅片厚度、總厚度變化 TTV 、彎曲度,該儀器適用于 Si , GaAs , InP , Ge 等幾乎所有的材料,所有的設計都符合 ASTM( 美國材料實驗協會 ) 和 Semi 標準,確保與其他工藝儀器的兼容與統一。



手動無接觸硅片測試儀 - 產品特點

無接觸測量
適用的晶圓材料包括Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有的材料
厚度和 TTV 測量采用無接觸電容法探頭
高分辨率液晶屏顯示厚度和 TTV 值
性價比高
菜單式快速方便設置
高分辨率液晶 LCD 顯示
提供和計算機連接的輸出端口
提供打印機端口
便攜且易于安裝
為晶圓硅片關鍵生產工藝提供精確的無接觸測量
高質量微處理器為精確和重復精度高的測量提供強力保障
高質量 聚四氟乙烯晶圓測試架,為晶圓硅片精確定位提供保障



手動無接觸硅片測試儀 - 技術指標

晶圓硅片測試尺寸: 50 mm - 300mm.
厚度測試范圍: 1000 u m , 可擴展到 1700 um.
厚度測試精度: +/-0.25um
厚度重復性精度: 0.050umm

TTV 測試精度 : +/-0.05um
TTV 重復性精度 : 0.050um

彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
彎曲度測試精度: +/-2.0umm
彎曲度重復性精度: 0.750umm

晶圓硅片導電型號: P 或 N 型
材料: Si , GaAs , InP , Ge 等幾乎 所有半導體材料
可用在: 切片后、磨片前、后, 蝕刻,拋光 以及出廠、入廠質量檢測等
平面 / 缺口:所有的半導體標準平面或缺口
硅片安裝:裸片,藍寶石 / 石英基底, 黏膠帶
連續 5 點測量



手動無接觸硅片測試儀 - 應用范圍

> 切片
  >>線鋸設置
    >>>厚度
    >>>總厚度變化TTV
  >>監測
    >>>導線槽
    >>>刀片更換
>磨片/刻蝕和拋光
  >> 過程監控
  >> 厚度
  >>總厚度變化TTV
  >> 材料去除率
  >> 彎曲度
  >> 翹曲度
  >> 平整度
> 研磨
  >> 材料去除率
> 最終檢測
  >> 抽檢或全檢
  >> 終檢厚度



手動無接觸硅片測試儀 - 典型客戶

美國,歐洲,亞洲及國內太陽能及半導體客戶。


 

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